| 摘要 |
광 간섭계를 제조하는 방법은, 빔 스플리터를 위한 제1 반도체부와, 가동 미러를 위한 제2 반도체부를, 지지 기판의 주면, 및 주면 상에 형성된 제1 절연층 상에 형성하는 제1 공정과, 제1 반도체부의 제1 측면과, 제2 반도체부에서의 제2 측면과의 사이에, 제1 벽부를 배치하는 제2 공정과, 섀도 마스크를 이용하여 제2 측면에 제1 금속막을 성막하는 것에 의해, 제2 반도체부에 미러면을 형성하는 제3 공정을 구비한다. 제3 공정에서는, 마스크부와 제1 벽부에 의해서 제1 측면을 마스크함과 아울러, 개구부로부터 제2 측면을 노출시킨 상태에서, 제1 금속막을 성막한다. |
