| 发明名称 |
耐蚀刻光阻组成物 |
| 摘要 |
耐蚀刻光阻组成物，包含硷可溶树脂以及一或多数个分散于该硷可溶树脂中的无机材。该硷可溶树脂是选自于松香树脂、经改质松香树脂、酚醛树脂或前述的一组合。每一无机材具有一片状外型、≦2的莫氏硬度及0.5至2μm的一次颗粒尺寸范围，该无机材的团聚体是分散至1至10μm的细度范围。本发明耐蚀刻光阻组成物透过添加无机材而有效阻挡酸的蚀刻，同时可保护基材。
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| 申请公布号 |
TWI530524 |
申请公布日期 |
2016.04.21 |
| 申请号 |
TW103103183 |
申请日期 |
2014.01.28 |
| 申请人 |
达兴材料股份有限公司 |
发明人 |
林佑忠;罗云山 |
| 分类号 |
C08L61/14(2006.01);C08G8/34(2006.01);C08K3/00(2006.01);C08K7/00(2006.01);H01L21/312(2006.01) |
主分类号 |
C08L61/14(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
高玉骏;杨祺雄 |
| 主权项 |
一种耐蚀刻光阻组成物，包含：硷可溶树脂，选自于松香树脂、经改质松香树脂、酚醛树脂或前述的一组合；以及一或多数个分散于该硷可溶树脂中的无机材，其中，每一无机材具有一片状外型、≦2的莫氏硬度及0.5至2μm的一次颗粒尺寸范围，其中，该无机材的团聚体是分散至1至10μm的细度范围。
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| 地址 |
台中市西屯区中部科学工业园区科园一路15号 |
