发明名称 氧化亚铜粉末及其制造方法
摘要 明提供一种粒径较以往小之氧化亚铜粉末及藉由化学还原法制造该氧化亚铜粉末的方法。该氧化亚铜粉末之制造方法系在将硷溶液与含铜离子溶液的其中一方添加至另一方产生氢氧化铜后,添加还原剂令氧化亚铜粒子还原析出者,其系于氢氧化铜产生前将相对于含铜离子溶液中之铜离子量为0.00001~0.04莫耳(10~40000ppm)之2价铁离子添加至含铜离子溶液,而制造藉由扫瞄式电子显微镜(SEM)所测定之平均一次粒子径为0.5μm以下,藉由雷射绕射式粒度分布测定所算出之50%粒子径(D50径)为0.8μm以下,且含有30ppm以上之铁的氧化亚铜粉末。
申请公布号 TWI530456 申请公布日期 2016.04.21
申请号 TW101135311 申请日期 2012.09.26
申请人 同和电子科技有限公司 发明人 金城优树;末永真一;浅野彰宏
分类号 B22F9/20(2006.01);H01B1/02(2006.01);C01G3/02(2006.01) 主分类号 C01G3/02(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项 一种氧化亚铜粉末之制造方法,系将硷溶液与含铜离子溶液的其中一方添加至另一方产生氢氧化铜后,添加还原剂令氧化亚铜粒子还原析出者;该制造方法之特征在于其系在产生氢氧化铜前,将2价铁离子添加至含铜离子溶液,且相对于含铜离子溶液中之铜离子1莫耳,该2价铁离子系0.0002~0.04莫耳。
地址 日本