| 发明名称 | 次溴酸稳定化组合物的制造方法、次溴酸稳定化组合物、以及分离膜的抑污方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供实质上不含溴酸根离子且杀菌性能优异、对于金属而言基本无腐蚀性、保存稳定性优异的单液系的次溴酸稳定化组合物的制造方法。次溴酸稳定化组合物的制造方法包括在非活性气体气氛下向含有水、碱金属氢氧化物和氨基磺酸的混合液中添加溴而使之反应的工序，溴的添加率相对于组合物的总量为25重量％以下。 | ||
| 申请公布号 | CN105517959A | 申请公布日期 | 2016.04.20 |
| 申请号 | CN201480047664.1 | 申请日期 | 2014.05.12 |
| 申请人 | 奥加诺株式会社 | 发明人 | 吉川浩;染谷新太郎;都司雅人;大森千晴 |
| 分类号 | C02F1/44(2006.01)I;A01N59/00(2006.01)I;A01P3/00(2006.01)I;B01D65/06(2006.01)I;B01D71/56(2006.01)I;C01B11/20(2006.01)I;C02F1/50(2006.01)I | 主分类号 | C02F1/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种次溴酸稳定化组合物的制造方法，其特征在于，该方法包括如下工序：在非活性气体气氛下向含有水、碱金属氢氧化物和氨基磺酸的混合液中添加溴而使之反应，所述溴的添加率相对于组合物的总量为25重量％以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||