实用半导体晶圆加热氧化仪

摘要

本实用新型公开了实用半导体晶圆加热氧化仪，包括进口端、氧化箱、支架、传送带、出口端、散热扇、计时器、温度计、氧气传输管、气体流量计、氧气填充装置和搁物架，所述的氧化箱一端为进口端，氧化箱另一端为出口端，前盖与进口端铰链，后盖与出口端连接，氧化箱底端设有支架，氧化箱由预热腔、加热腔和散热腔组成，氧化箱内设有传送带，传送带上设有搁物架，氧气填充装置通过氧气传输管与加热腔连通，氧气传输管上设有气体流量计，散热腔内壁顶端设有散热扇，氧化箱上设有计时器和温度计。本实用新型避免热量散失，提高加热氧化效率，可以避免放置拿取晶圆时烫伤手，调整加热时间，达到合适的氧化效果，结构简单，使用方便，利于推广。

主权项

实用半导体晶圆加热氧化仪，包括进口端、氧化箱、支架、传送带、出口端、散热扇、计时器、温度计、氧气传输管、气体流量计、氧气填充装置和搁物架， 其特征在于，所述的氧化箱一端为进口端，氧化箱另一端为出口端，前盖与进口端铰链，后盖与出口端连接，氧化箱底端设有支架，氧化箱由预热腔、加热腔和散热腔组成，氧化箱内设有传送带，传送带上设有搁物架，氧气填充装置通过氧气传输管与加热腔连通，氧气传输管上设有气体流量计，散热腔内壁顶端设有散热扇，氧化箱上设有计时器和温度计。