发明名称 一种新型的铜缓蚀膜及其制备方法
摘要 本发明涉及金属防腐领域,具体是一种新型的铜缓蚀膜及其制备方法,是采用乙酰羟肟酸作为缓蚀剂在铜表面形成乙酰羟肟酸自组装缓蚀膜。本发明将缓蚀剂分子自组装到铜表面,形成自组装分子膜,方法更加绿色环保;相对于传统的无机缓蚀剂、有机缓蚀剂,AHA缓蚀剂比较环保,原料价廉,并且该缓蚀分子具有独特的分子结构和理化性质;可以通过电化学,光学显微镜等技术实时检测金属的腐蚀与缓蚀情况;AHA缓蚀膜对于Cu具有很高的缓蚀效率。
申请公布号 CN105506642A 申请公布日期 2016.04.20
申请号 CN201510881373.9 申请日期 2015.12.03
申请人 上海师范大学 发明人 杨海峰;杜娟
分类号 C23F11/14(2006.01)I 主分类号 C23F11/14(2006.01)I
代理机构 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 代理人 陆林辉
主权项 一种新型的铜缓蚀膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将除去表面氧化铜并用三氧化二铝抛光粉抛光的铜电极,浸渍在除去溶解氧的组装液中,所述的组装液为乙酰羟肟酸溶液,密封后,于2~8℃中避光进行自组装,即在铜表面形成乙酰羟肟酸自组装铜缓蚀膜。
地址 200234 上海市徐汇区桂林路100号