发明名称 |
量测方法、量测装置、微影装置及器件制造方法 |
摘要 |
量测装置,其包括:一光学系统,其用以将照明辐射提供至一周期性结构上之一点中且用以接收由该周期性结构重新导向之辐射,该光学系统包括:一第一光阑,其用以阻挡来自该周期性结构之零阶辐射且允许非零阶辐射穿过;及一第二光阑,其用以阻挡穿过该第一光阑的零阶辐射且允许该非零阶辐射穿过;及该光学系统下游之一辐射侦测器,其用以接收该非零阶辐射。
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申请公布号 |
TW201614222 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
申请号 |
TW104119622 |
申请日期 |
2015.06.17 |
申请人 |
ASML控股公司;ASML荷兰公司 |
发明人 |
艾伯特 鄂尔 威廉;班捷恩 法兰西斯科 哥登法兰德斯 凯司柏 |
分类号 |
G01N21/93(2006.01);G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G01N21/93(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林嘉兴 |
主权项 |
一种量测装置,其包含:一光学系统,其用以将照明辐射提供至一周期性结构上之一点中且用以接收由该周期性结构重新导向之辐射,该光学系统包含:一第一光阑,其用以阻挡来自该周期性结构之零阶辐射且允许非零阶辐射穿过;及一第二光阑,其用以阻挡穿过该第一光阑的零阶辐射且允许该非零阶辐射穿过;及该光学系统下游之一辐射侦测器,其用以接收该非零阶辐射。
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地址 |
荷兰;荷兰 |