发明名称 |
相位差膜之制造方法及圆偏光板之制造方法 |
摘要 |
明提供一种可以较高之制造效率制造双轴性受到抑制、Nz系数较小、于斜向上具有迟相轴之相位差膜的方法。
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申请公布号 |
TWI529429 |
申请公布日期 |
2016.04.11 |
申请号 |
TW103111892 |
申请日期 |
2014.03.28 |
申请人 |
日东电工股份有限公司 |
发明人 |
清水享;平田聪;近藤诚司;村上奈穗 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01);G02F1/1335(2006.01);B29C55/04(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种相位差膜之制造方法,其依序包括:分别藉由纵向之夹具间距发生变化之可变间距型之左右夹具抓持延伸对象之膜之左右侧缘部,将该膜预热,于将该左右夹具中之一边夹具之夹具间距开始减小之位置与另一边夹具之夹具间距开始减小之位置设为纵向上之不同位置之状态下,将各夹具之夹具间距减小至特定间距,而将该膜斜向延伸,及解除抓持该膜之夹具,上述斜向延伸中之夹具间距变化率(减少后之夹具间距/减少前之夹具间距)为0.55~0.80,上述斜向延伸包含横向延伸,且上述夹具间距变化率(减少后之夹具间距/减少前之夹具间距)与上述横向延伸之延伸倍率的乘积为1.4~2.5。
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地址 |
日本 |