薄膜上胶设备张力光电跟踪装置

摘要

本发明涉及铜带制备技术领域，尤其是一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置。现有设备在薄膜上胶时将薄膜通过几只辊传输至上胶处上胶，传输过程中薄膜会出现拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一及薄膜跑偏现象，导致上胶后的薄膜厚薄不一，费品率较高。该薄膜上胶设备张力光电跟踪装置包括机架和安装在机架上的进料辊、若干传输辊，所述任意一根传输辊上增设光电跟踪装置，进料辊一侧设有应力系统。改进后的上胶设备有效防止传输过程中薄膜出现跑偏现象，避免了拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一，导致上胶后的薄膜厚薄不一的状况，大大降低了费品率，提高了生产效率。

主权项

一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置，包括机架（1）和安装在机架（1）上的进料辊（2）、若干传输辊（3），其特征是，所述任意一根传输辊（3）上增设光电跟踪装置（4），进料辊（2）一侧设有应力系统（5）。