发明名称 金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法
摘要 一种金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法,该装置包含依次顺序设置的超声波粗洗槽、第一漂洗槽、电解抛光槽、第二漂洗槽、中和槽、第三漂洗槽、超声波精洗槽和烘干箱,超声波粗洗槽之前设置放带盘,烘干箱之后设置收带盘。使水通入超声波粗洗槽、第一漂洗槽、第二漂洗槽、中和槽、第三漂洗槽、超声波精洗槽,并使水面没过基带,使电解液循环通入电解抛光槽,并使电解抛光槽的电解液没过基带,开启步进电机,驱动基带匀速运动,进行连续电解抛光。本发明结构简单,设计合理,制造成本低,适宜于批量化的抛光生产,能够实现公里级基带的连续电解抛光,抛光后的合金基带的均方根粗糙度低于2纳米。
申请公布号 CN102851729B 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201210139727.9 申请日期 2012.05.08
申请人 上海超导科技股份有限公司 发明人 李贻杰
分类号 C25F3/16(2006.01)I;C25F7/00(2006.01)I 主分类号 C25F3/16(2006.01)I
代理机构 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人 张妍
主权项 一种金属基带的多通道连续化电解抛光装置,其特征在于,该装置包含依次顺序设置的超声波粗洗槽(1)、第一漂洗槽(2)、电解抛光槽(3)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)、超声波精洗槽(7)和烘干箱(8),超声波粗洗槽(1)之前设置放带盘(11),烘干箱(8)之后设置收带盘(20),所述的超声波粗洗槽(1)、第一漂洗槽(2)、电解抛光槽(3)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)、超声波精洗槽(7)和烘干箱(8)上皆设置有通孔,待处理的基带(10)从放带盘(11)中拉出,依次通过超声波粗洗槽(1)、第一漂洗槽(2)、电解抛光槽(3)、第二漂洗槽(4)、中和槽(5)、第三漂洗槽(6)、超声波精洗槽(7)和烘干箱(8)上的通孔后,缠绕进入收带盘(20);电解抛光槽(3)的两端分别设置3个与直流电源相接的金属旋转滚轴阳极柱(301);电解抛光槽(3)内安装有与直流电源相接的一个单面抛光或者两个双面抛光的阴极板(302),基带(10)按照S型通过金属旋转滚轴阳极柱(301),放带盘(11)和收带盘(20)上同时缠绕若干基带卷盘。
地址 201203 上海市浦东新区芳春路400号1幢3层301-15室