发明名称 感光化射线性或感放射线性树脂组成物及使用其之图案形成方法
摘要 可形成于图案之正圆度改善有效果、焦点宽容度良好的图案之感光化射线性或感放射线性树脂组成物、及使用其之图案形成方法。一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物,其为含有(A)藉由酸之作用增大对硷显影液之溶解度之树脂,及(B)由下述一般式(1-1)或(1-2)表示之藉由光化射线或放射线之照射产生酸之化合物而成的感光化射线性或感放射线性树脂组成物,树脂(A)含有具有酸分解性基的重复单元,该重复单元的含有率相对于树脂(A)中的全部重复单元为45~75莫耳%,且化合物(B)的含有率以该组成物的总固体成分为基准为10~30质量%。(式中的各符号系具有于本说明书及申请专利范围中记载的意义)
申请公布号 TWI527790 申请公布日期 2016.04.01
申请号 TW099129197 申请日期 2010.08.31
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 白川三千紘;丹吴直紘;涉谷明规;山口修平;片冈祥平
分类号 C07C381/12(2006.01);G03F7/004(2006.01);C08L101/04(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 C07C381/12(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;丁国隆
主权项 一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物,其系含有:(A)藉由酸之作用增大对硷显影液之溶解度之树脂,及至少(B)以下述一般式(1-1)或(1-2)表示之化合物作为藉由光化射线或放射线之照射产生酸之化合物而成的感光化射线性或感放射线性树脂组成物,其特征为:树脂(A)至少含有以下述一般式(AI)表示之重复单元作为具有酸分解性基的重复单元,且含该重复单元之具有酸分解性基的重复单元的含有率相对于树脂(A)中之全部重复单元为45~75莫耳%,而且化合物(B)以该组成物的全部固体成分为基准的含有率为10~30质量%; 一般式(AI)中,Xa1系表示氢原子、亦可具有取代基之甲基或以-CH2-R9表示之基;R9系表示羟基或1价之有机基;T系表示单键;Rx1、Rx2及Rx3中之一者系表示直链或分枝烷基、或单环或多环之环烷基,另外二者相互结合而形成单环之环烷基; 一般式(1-1)中,R13系表示氢原子、氟原子、羟基、烷基、环烷基、烷氧基、烷氧基羰基、或具有单环或多环的环烷骨架之基;存在多个R14的情况系各自独立表示烷基、环烷基、烷氧基、烷基磺醯基、环烷基磺醯基、烷基羰基、烷氧基羰基、或具有单环或多环的环烷骨架之基;R15系各自独立表示烷基、环烷基、苯基或是萘基;但除去2个R15同时为苯基之情况;又,2个R15亦可互相结合形成环;l系表示0至2之整数;r系表示0至8之整数;X-系表示非亲核性阴离子;一般式(1-2)中,M系表示烷基、环烷基、芳基或苄基,具有环构造时,环构造系亦可含有氧原子、硫原子、酯键、醯胺键、或碳-碳双键;R1c及R2c系各自独立地代表氢原子、烷基、环烷基、卤素原子、氰基或芳基;Rx及Ry系各自独立地代表烷基、环烷基、2-侧氧烷基、烷氧基羰基烷基、烯丙基、或乙烯基; Rx及Ry亦可结合形成环;M、R1c及R2c之至少二个亦可结合形成环、该环构造亦可含碳-碳双键;X-系表示非亲核性阴离子。
地址 日本