发明名称 |
带有自动清洗功能的涂胶机及涂胶机的自动清洗方法 |
摘要 |
明揭示了一种带有自动清洗功能的涂胶机以及一种涂胶机的自动清洗方法。在一个实施例中,涂胶机包括能够充满清洗液的涂胶腔室,固持基板的基板卡盘,及至少一个护罩,该护罩能够向上移动以防止光刻胶飞溅出涂胶腔室,或者向下移动并浸没在清洗液中以进行清洗。一种涂胶机的自动清洗方法,包括以下步骤:关闭涂胶机的出液阀;使涂胶腔室充满清洗液;待涂胶腔室内的光刻胶溶解于清洗液之后,打开涂胶机的出液阀并将清洗液排出涂胶腔室。
|
申请公布号 |
TW201611903 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
申请号 |
TW104117205 |
申请日期 |
2015.05.28 |
申请人 |
盛美半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
王晖;陈福平;王文军;杨宏超;V 纳其;陈福发;王坚;张晓燕;仰庶 |
分类号 |
B05B15/00(2006.01);B05C9/12(2006.01) |
主分类号 |
B05B15/00(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
一种带有自动清洗功能的涂胶机,其特征在于,包括:涂胶腔室,所述涂胶腔室能够充满清洗液;基板卡盘,所述基板卡盘固持基板;至少一个护罩,所述护罩能够向上移动以防止光刻胶飞溅出所述涂胶腔室,或者向下移动并浸没在所述清洗液中以进行清洗。
|
地址 |
中国 |