发明名称 Aufnahmeeinrichtung zur Halterung von Wafern
摘要 Aufnahmeeinrichtung zur Aufnahme und Halterung eines unteren Substrats (2) mit folgenden Merkmalen: – eine Halterungsfläche (1o), – Haltemittel zur Halterung des unteren Substrats (2) an der Halterungsfläche (1o) und – Messmittel zur Ermittlung einer nichtlinearen Komponente eines run-out-Fehlers des unteren Substrats (2).
申请公布号 DE202016000967(U1) 申请公布日期 2016.03.31
申请号 DE20162000967U 申请日期 2016.02.16
申请人 EV Group E. Thallner GmbH 发明人
分类号 H01L21/673;H01L21/66 主分类号 H01L21/673
代理机构 代理人
主权项
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