| 发明名称 | 电子设备及其壳体制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种电子设备及其壳体制作方法，属于电子产品领域。所述电子设备包括：M个电子元器件，壳体，所述壳体具有容置空间，所述M个电子元器件固定设置在所述容置空间内，所述壳体上开设有N个通孔，所述M个电子元器件中的N个电子元器件通过所述N个通孔显露，M＞N≥1且M和N均为正整数；所述壳体包括：构成所述容置空间的侧壁；所述侧壁的外表面分成K层的视觉效果，K为大于或等于3的正整数，所述K层中层与层之间的分界线相互平行。 | ||
| 申请公布号 | CN105451475A | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201410405859.0 | 申请日期 | 2014.08.18 |
| 申请人 | 联想（北京）有限公司 | 发明人 | 范小利;谢予明;马雷;韩小勤 |
| 分类号 | H05K5/00(2006.01)I;B29C45/14(2006.01)I | 主分类号 | H05K5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人 | 张耀光 |
| 主权项 | 一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：M个电子元器件，壳体，所述壳体具有容置空间，所述M个电子元器件固定设置在所述容置空间内，所述壳体上开设有N个通孔，所述M个电子元器件中的N个电子元器件通过所述N个通孔显露，M＞N≥1且M和N均为正整数；所述壳体包括：构成所述容置空间的侧壁；所述侧壁的外表面分成K层的视觉效果，K为大于或等于3的正整数，所述K层中层与层之间的分界线相互平行。 | ||
| 地址 | 100085 北京市海淀区上地西路6号 | ||