掩模版及其形成方法

摘要

一种掩模版及其形成方法，其中掩模版的形成方法包括：提供基板，基板包括透光板和非透光膜；在非透光膜中写入布局图案，布局图案包括密集型图案和孤立型图案，密集型图案包括平行排列的若干第一条形线，孤立型图案包括平行排列的若干第二条形线；在相邻两第二条形线之间具有至少一个亚分辨率辅助图案，亚分辨率辅助图案包括条形图案、位于条形图案沿长度方向的侧壁的若干间隔分布的凸部，条形图案与第二条形线平行；使用清洗剂清洗写入过程中产生的杂质；对掩模版进行甩干以去除残留清洗剂。凸部增强了整个亚分辨率辅助图案在透光板上的附着力，在甩干清洗剂的过程中，这降低了亚分辨率辅助图案倾斜甚至从透光板上脱落的可能性。

主权项

一种掩模版的形成方法，其特征在于，包括：提供基板，所述基板包括透光板、位于所述透光板上的非透光膜；在所述非透光膜中写入布局图案以形成掩模版，所述布局图案包括密集型图案和孤立型图案，所述密集型图案包括平行排列的若干第一条形线，所述孤立型图案包括平行排列的若干第二条形线；在相邻两第二条形线之间具有至少一个亚分辨率辅助图案，所述亚分辨率辅助图案包括条形图案、位于所述条形图案沿长度方向的侧壁的若干间隔分布的凸部，所述条形图案与第二条形线平行；使用清洗剂清洗所述写入过程产生的杂质；对所述掩模版进行甩干以去除残留的清洗剂。