一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备

摘要

本发明提供一种基片承载装置，用于承载基片，其包括至少一个托盘，并且各托盘均具有两个相反的用于承载所述基片的盘面。在应用本发明提供的基片承载装置进行工艺时，与目前常用的同等尺寸的基片承载装置相比，可承载更多的基片，从而能够有效提高设备产能及工艺气体利用率。此外，本发明还提供一种应用上述基片承载装置的基片处理设备。

主权项

一种基片承载装置，用于承载基片，其特征在于，包括至少一个托盘，所述托盘具有两个相反的用于承载所述基片的盘面，所述盘面上设置有多个用于放置所述基片的装片位，所述装片位包括与所述基片形状相适配的凹槽，在所述凹槽与所述盘面相交的边缘处设置有凸爪和/或凸缘，借助所述凸爪和/或凸缘而将所述基片限定在所述凹槽中，并且，在所述托盘的与所述盘面相邻的侧面上设置有与所述凹槽相连通的装片通道；在装/卸基片时，通过该装片通道而将基片放入所述凹槽中或从所述凹槽中取出；或者所述凸爪和/或凸缘分布于所述凹槽的部分边缘处，所述凹槽的与所述托盘的下盘面相交的未被所述凸爪和/或凸缘覆盖的边缘对应的区域面积足以使基片通过；在装/卸基片时，使所述基片通过所述凹槽的与所述托盘的下盘面相交的未被所述凸爪和/或凸缘覆盖的边缘对应的区域进入所述凹槽内部，然后将所述基片移动至所述凸爪和/或凸缘所在位置处，以借助所述凸爪和/或凸缘将所述基片限定于所述凹槽内。