发明名称 干蚀刻机及干蚀刻机的下电极
摘要 本发明公开了一种干蚀刻机及干蚀刻机的下电极,干蚀刻机包括上电极及与上电极相对设置的下电极,下电极具有基底,基底上设有陶瓷,陶瓷的上表面承载基板,下电极设置若干销孔及与每一销孔对应设置的销,每一销孔均贯穿基底及陶瓷并与一销对应,每一销孔靠近陶瓷的上表面设置有垫片,垫片的下方设置有感应器,下电极包括控制器,控制器连接销、垫片及感应器,控制器控制销的运动,感应器捕获销运动的感应信号并传输给控制器,以使控制器根据接收到的感应信号控制垫片相对于销孔运动以密封或开启销孔,避免蚀刻气体与基底发生尖端放电效应而造成下电极被击伤。
申请公布号 CN105428197A 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201510790754.6 申请日期 2015.11.17
申请人 武汉华星光电技术有限公司 发明人 张占东
分类号 H01J37/32(2006.01)I 主分类号 H01J37/32(2006.01)I
代理机构 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人 黄瑜
主权项 一种干蚀刻机,用于对基板进行干蚀刻处理,其特征在于,所述干蚀刻机包括:上电极及与所述上电极相对设置的下电极,所述下电极的上表面用于承载所述基板,所述下电极具有一基底,所述基底上设有陶瓷,所述陶瓷的上表面用于承载基板,所述下电极设置若干销孔及与每一销孔对应设置的销,每一销孔均贯穿所述基底及所述陶瓷并与一销对应,每一所述销孔靠近所述陶瓷的上表面设置有垫片,所述垫片的下方设置有感应器,所述下电极包括一控制器,所述控制器分别连接所述销、所述垫片及所述感应器,所述控制器控制销的运动,所述感应器捕获销运动的感应信号并将其传输给控制器,以使控制器根据接收到的所述感应信号控制所述垫片相对于所述销孔运动以密封或开启所述销孔。
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