SPECTRAL PURITY FILTER RADIATION SOURCE LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD,申请号KR20117003201-传众专利搜索

发明名称	SPECTRAL PURITY FILTER RADIATION SOURCE LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要	스펙트럼 퓨리티 필터는 극자외(EUV) 방사선의 투과를 허용하고, 비-EUV 2차 방사선을 굴절시키거나 반사시키도록 구성된다. 스펙트럼 퓨리티 필터는 리소그래피 장치 및/또는 소스 모듈의 일부분일 수 있다.
申请公布号	KR101602373(B1)	申请公布日期	2016.03.21
申请号	KR20117003201	申请日期	2009.07.09
申请人	에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.	发明人	야크, 마르틴 야코부스 요한;소어, 보우터 안톤;반 헤르펜, 마르텐 마리누스 요한네스 빌헬무스;바니네, 바딤 예프겐예비치;야쿠닌, 안드레이 미카일로비치
分类号	G02B5/20;G03F7/20	主分类号	G02B5/20
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利