| 发明名称 |
半导体基板洗净用组成物 |
| 摘要 |
明提供一种半导体基板洗净用组成物，其系在于半导体基板表面形成膜并去除基板表面之异物之制程中，可效率良好地去除基板表面之颗粒，且可自基板表面容易地去除所形成之膜。
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| 申请公布号 |
TW201609889 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
| 申请号 |
TW104124383 |
申请日期 |
2015.07.28 |
| 申请人 |
ＪＳＲ股份有限公司 |
发明人 |
望田宪嗣;岛基之 |
| 分类号 |
C08J5/18(2006.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
C08J5/18(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种半导体基板洗净用组成物，其含有溶剂、与含氟原子、矽原子或该等之组合之聚合物。
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| 地址 |
日本 |
