| 发明名称 |
有机胺基矽烷化合物于原子层沉积及电浆强化原子层沉积中来形成一含矽膜的用途 |
| 摘要 |
描述的是用于形成含矽膜的前驱物及方法。在一态样中，该前驱物包含由以下式A至E中的一者所示之化合物：
在一特定具体实施例中，该等有机胺基矽烷前驱物能有效用于含矽膜之低温(例如，350℃或更低)、原子层沉积(ALD)或电浆强化原子层沉积(PEALD)。另外，本文描述的是一种包含本文所述之有机胺基矽烷的组合物，其中该有机胺基矽烷实质上不含选自胺类、卤化物(例如Cl、F、I、Br)、较高分子量物种及微量金属的至少一者。
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| 申请公布号 |
TW201609767 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
| 申请号 |
TW104142370 |
申请日期 |
2014.09.19 |
| 申请人 |
气体产品及化学品股份公司 |
发明人 |
欧尼尔 马克 李纳德;萧 满超;雷 新建;何 理查;钱德拉 哈里宾;麦当劳 马修 Ｒ;王美良 |
| 分类号 |
C07F7/10(2006.01);C23C16/22(2006.01);C23C16/455(2006.01);C23C16/513(2006.01);B65D13/00(2006.01) |
主分类号 |
C07F7/10(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈展俊 |
| 主权项 |
一种使用选自下列群组的一有机胺基矽烷化合物于原子层沉积及电浆强化原子层沉积中来形成一含矽膜的用途，该群组由
((C2H5)2N)2-SiH-(CH2)2-SiH3,((C2H5)2N)2-SiH-(CH2)2-SiH2N(C2H5)2，及((C2H5)2N)2-SiH-(CH2)2-SiH(N(C2H5)2)2，所组成。
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| 地址 |
美国 |
