| 发明名称 | 一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法，利用磁控溅射共溅射在光滑石英或单晶硅基底上制备100nm-150nm的银和二氧化硅纳米复合薄膜；在复合薄膜表面继续溅射一层30-50nm纳米银薄膜；将上述薄膜放入退火炉中，在保护性气氛下加热至900℃-940℃进行退火1-3小时，冷却至室温，即得到一种具有拉曼增强性能薄膜。本发明制备工艺简单，重复性好，且稳定性好。 | ||
| 申请公布号 | CN105403551A | 申请公布日期 | 2016.03.16 |
| 申请号 | CN201510721659.0 | 申请日期 | 2015.10.30 |
| 申请人 | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 | 发明人 | 何丹农;尹桂林;卢静 |
| 分类号 | G01N21/65(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/65(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海东方易知识产权事务所 31121 | 代理人 | 唐莉莎 |
| 主权项 | 一种具有拉曼增强性能薄膜的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：（1）利用磁控溅射共溅射在光滑石英或单晶硅基底上制备100nm‑150nm的银和二氧化硅纳米复合薄膜；（2）在复合薄膜表面继续溅射一层30‑50nm纳米银薄膜；（3）将上述薄膜放入退火炉中，在保护性气氛下加热至900℃‑940℃进行退火1‑3小时，冷却至室温，即得到一种具有拉曼增强性能薄膜。 | ||
| 地址 | 200241 上海市闵行区江川东路28号 | ||