发明名称 |
一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统 |
摘要 |
本发明公开了一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统,该控制方法、曝光方法和曝光系统中,通过使用硅片面上参与曝光的第二光线能量,对中间焦点处不参与曝光的第一光线能量进行标定,建立二者之间的关系曲线,进而通过对中间焦点处不参与曝光的光线能量值进行实时在线监测,间接实现了对于硅片面上曝光能量(曝光剂量)的监测,通过监测的结果进行光开关控制,实现了在线监控曝光剂量的目的,提高了曝光剂量的监控精度。 |
申请公布号 |
CN105404100A |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
CN201510962473.4 |
申请日期 |
2015.12.21 |
申请人 |
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
发明人 |
谢耀;王丽萍;周烽;王君;王辉;郭本银;金春水 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种曝光系统中曝光剂量的监控方法,其特征在于,包括以下步骤:调整曝光系统中光源的强度,探测多组该曝光系统中曝光光学系统内中间焦点处不参与曝光的第一光线能量以及硅片面上参与曝光的第二光线能量;依据探测的多组第一光线能量和第二光线能量,建立第一光线能量与第二光线能量之间的关系曲线;在曝光过程中,实时探测曝光光学系统内中间焦点处不参与曝光的光线能量值;依据第一光线能量与第二光线能量之间的关系曲线以及实时探测的光线能量值,控制所述曝光系统中的光开关。 |
地址 |
130000 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号 |