发明名称 成膜装置及成膜方法
摘要 不致让气体供给量增加且能尽量抑制生产节拍的降低,可提高处理气体的利用效率并抑制排气路径中之反应生成物的生成而进行批式ALD成膜。
申请公布号 TW201610217 申请公布日期 2016.03.16
申请号 TW104119403 申请日期 2015.06.16
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 仙波昌平;里吉务;田中诚治
分类号 C23C16/455(2006.01);C23C16/52(2006.01) 主分类号 C23C16/455(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种成膜装置,系将复数个处理气体依序切换进行供给而在复数个被处理基板上形成既定的膜之批式的成膜装置,其特征在于,系具备:将被处理基板予以逐片地收容之复数个处理室、对前述复数个处理室分别依序供给复数个处理气体之气体供给单元、将前述复数个处理室予以排气之排气单元、以及用来控制对于前述复数个处理室之处理气体的供给及排气之控制部;前述排气单元系具有:分别对应于前述复数个处理气体之复数个排气路径、以及切换前述排气路径之排气路径切换部;前述控制部,在从前述气体供给单元往前述处理室供给处理气体时,对于一个处理气体,以将时间错开而依序供给至各处理室的方式控制前述气体供给单元,且在藉由前述排气单元进行排气时,以透过与供给至各处理室之处理气体对应的排气路径而进行排气的方式控制前述排气路径切换部。
地址 日本