发明名称 |
藉由层转移之在反向极性基板上的高电子迁移率电晶体制程 |
摘要 |
方法,包括在牺牲基板上的极性复合半导体层上形成屏障层,将该牺牲基板耦接到载体基板,用以形成复合结构,其中该屏障层系设置在该极性复合半导体层与该载体基板之间,将该牺牲基板从该复合结构分离,用以暴露该极性复合半导体层,以及形成至少一个电路装置。一种设备,包括:屏障层,其在基板上;电晶体装置,其在该屏障层上;极性复合半导体层,其设置在该屏障层和该电晶体装置之间,该极性复合半导体层包括二维电子气体于其中。
|
申请公布号 |
TW201611277 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
申请号 |
TW104114132 |
申请日期 |
2015.05.04 |
申请人 |
英特尔股份有限公司 |
发明人 |
全箕玟;达斯古塔 山萨塔克;利万德 亚历韩卓;摩洛 派克 |
分类号 |
H01L29/778(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/778(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种方法,包括:在牺牲基板上的极性复合半导体层上形成屏障层;将该牺牲基板耦接到载体基板,用以形成复合结构,其中该屏障层系设置在该极性复合半导体层与该载体基板之间;将该牺牲基板从该复合结构分离,用以暴露该极性复合半导体层;以及形成至少一个电路装置。
|
地址 |
美国 |