研磨用组成物及研磨方法

摘要

明揭示一种研磨用组成物，系含有于水溶液中而在与氧化剂之共存下能使pH降低之物质、及pH缓冲剂之研磨用组成物。其特征为：刚对此种研磨用组成物100g添加31重量%过氧化氢水5.16g后之研磨用组成物之pH、与从添加过氧化氢水并经静置8日后之研磨用组成物之pH之差，以绝对值计，为0.5以下。又，本发明揭示一种另一研磨用组成物，系含有于水溶液中而在与氧化剂之共存下能使pH降低之物质、及pH控制剂之研磨用组成物，其特征为：相较于刚对研磨用组成物100ml添加31重量%过氧化氢水5.16g后之研磨用组成物中的硷性物质的量，从添加过氧化氢水并经静置8日后之研磨用组成物中的硷性物质的量为增加0.1mM(毫莫耳)以上。

主权项

一种研磨用组成物，系含有于水溶液中而在与氧化剂之共存下能使pH降低之物质、及pH缓冲剂之研磨用组成物，其特征为：前述使pH降低之物质为表面活性剂、水溶性高分子、胺化合物、金属防蚀剂或有机溶剂，且符合准备含有0.05重量%的前述表面活性剂或前述水溶性高分子、或者5mmol/L的前述胺化合物、前述金属防蚀剂或前述有机溶剂之水溶液、将氢氧化钾或硫酸作为pH调节剂添加以调整水溶液之pH成为约7.5，然后，比较刚对此水溶液100g添加31重量%过氧化氢水10.32g后的水溶液之pH与从添加过氧化氢后在23℃~27℃下静置保管8日后的水溶液之pH时的pH之差，以绝对值计须在0.5以上之条件，前述pH缓冲剂，系可以下述之一般式(1)表示之化合物，于一般式(1)中，R1及R3分别独立表示碳原子数为1至4的无取代或取代之直链烷基，R2表示氢原子、羟基、磺基、羧基、胺基、醯胺基、胺基甲醯基、硝基、甲氧基、乙氧基、卤素基、苯基、乙醯基、碳原子数为1至4之无取代或取代烷基之任一，X表示磺基、羧基，以及其等的盐之任一，

而对研磨用组成物100g添加31重量%过氧化氢水5.16g后即刻之研磨用组成物之pH、与从添加过氧化氢水并经静置8日后之研磨用组成物之pH之差，以绝对值计，为0.5以下。