| 发明名称 | 一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法，涉及掩膜板技术领域，解决了现有的掩膜条在掩膜板的不同位置处拉伸力不均的问题。一种掩膜框架，包括框架主体、弹性装置以及位于框架主体相对的两侧的两个固定部，每个所述固定部通过所述弹性装置与所述框架主体连接固定。本发明适用于掩膜板以及掩膜板的制造。 | ||
| 申请公布号 | CN104298069B | 申请公布日期 | 2016.03.02 |
| 申请号 | CN201410540132.3 | 申请日期 | 2014.10.13 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 发明人 | 吴海东;金泰逵;白娟娟;马群 |
| 分类号 | G03F1/64(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/64(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种掩膜框架，其特征在于，包括框架主体、弹性装置以及位于框架主体相对的两侧的两个固定部，每个所述固定部通过所述弹性装置与所述框架主体连接固定。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||