发明名称 PHOTO-CURABLE NANOIMPRINT COMPOSITION METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION AND NANOIMPRINT REPLICA MOLD COMPRISING CURED PRODUCT OF COMPOSITION
摘要 에칭 내성이 우수하고, 분산성이 좋은 조성물로 생산성이 우수한 나노임프린트용 광경화성 조성물을 제공한다. 나아가서는 비교적 낮은 압력으로 금형을 압압한 경우에도, 패턴의 전사를 용이하게 할 수 있는 광경화성 나노임프린트용 조성물을 제공한다. 광경화성 나노임프린트용 조성물은, (A) 유기 규소 화합물 및 (메트)아크릴기 함유 규소 화합물의 혼합물을, 상기 혼합물에 있어서의 전체 알콕시기의 몰수에 대하여 0.1배몰 이상 1.0배몰 미만의 양의 물로 가수분해한 부분 가수분해물, (B) (메트)아크릴기를 갖는 중합성 단량체, 및 (C) 광중합 개시제를 포함하여 이루어진다. 또한, (A)에는 불소화 실란 화합물 및/또는 금속 알콕시드의 부분 가수분해물을 포함할 수도 있다.
申请公布号 KR101597880(B1) 申请公布日期 2016.02.25
申请号 KR20137006641 申请日期 2011.10.19
申请人 가부시끼가이샤 도꾸야마 发明人 우메카와, 히데키;가와바타, 유이치로;사사키, 유코
分类号 C08G77/20;C08L83/07;H01L21/027 主分类号 C08G77/20
代理机构 代理人
主权项
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