发明名称 基于同时真空蒸发工艺的CZTSE光吸收层制造方法
摘要 本发明涉及一种基于同时真空蒸发工艺来制造优质的CZTSe光吸收层薄膜的方法,该方法包括:使Cu,Zn、Sn以及Se同时蒸发而蒸镀到基板的步骤(步骤a);以及一边降低所述基板的温度一边使Zn、Sn以及Se同时蒸发而蒸镀到基板的步骤(步骤b)。本发明在高温执行同时真空蒸发工艺,然后一边降低基板的温度一边执行进一步的蒸发工艺,从而具有如下效果,即,能够解决由与高温的同时真空蒸发工艺相伴的Sn损失造成的问题。此外,通过本发明的制造方法形成的CZTSe光吸收层的膜质优异,因此还具有如下效果,即,可提高利用该CZTSe光吸收层制造的CZTSe太阳能电池的光电转换效率。
申请公布号 CN105340081A 申请公布日期 2016.02.17
申请号 CN201480021343.4 申请日期 2014.04.17
申请人 韩国ENERGY技术硏究院 发明人 郭智惠;尹载浩;安承奎;申基植;安世镇;赵阿拉;尹庆勋;鱼英柱;赵俊植;朴柱炯;柳镇洙;朴相炫;崔慧琳
分类号 H01L31/032(2006.01)I 主分类号 H01L31/032(2006.01)I
代理机构 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人 朴云龙;刘继富
主权项 一种基于同时真空蒸发工艺的CZTSe光吸收层制造方法,通过同时真空蒸发工艺来制造CZTSe太阳能电池的光吸收层,其特征在于,包括:使Cu、Zn、Sn以及Se同时蒸发而蒸镀到基板的步骤(步骤a);一边降低所述基板的温度,一边使Sn和Se同时蒸发而蒸镀到基板的步骤(步骤b)。
地址 韩国大田市