发明名称 |
電解金属、好適には銅の、基板上への垂直堆積装置および当該装置の受容に適した容器 |
摘要 |
電解金属の、基板上への垂直堆積装置(1)は、複数のアノード部分で構成され、少なくとも1つの貫通管路を有するアノード(2)と、複数の貫通管路を含む支持体(3)であって、同心円の形態でアノードまたは当該支持体の各表面上に当該貫通管路がそれぞれ配置された、支持体(3)と、処理溶液を第1の支持体内に導く第1の流体供給要素(4)と、複数の固定手段(5)と、複数の電気接続要素(6)とを備え、アノード(2)および支持体(3)が互いに接続され、当該装置を受容した容器内に当該装置全体を取り外し可能に固定する固定手段(5)およびアノード(2)に電流を供給する電気接続要素(6)の両者が、支持体(3)の背面上に配置されたことを特徴とする。アノード(2)は支持体(3)に囲まれており、支持体のアノード(2)側の面が、支持体(3)の上縁およびアノード(2)の縁部が整列となるようにアノード(2)を収容する空洞を有する。 |
申请公布号 |
JP2016504499(A) |
申请公布日期 |
2016.02.12 |
申请号 |
JP20150548332 |
申请日期 |
2013.12.03 |
申请人 |
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングAtotech Deutschland GmbH |
发明人 |
ラルフ ラウエンブッシュ;クリスティアン トーマス;レイ ヴァインホルト;ハインツ クリングル |
分类号 |
C25D21/00;C25D7/12;C25D17/00;C25D17/12 |
主分类号 |
C25D21/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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