等离子体加工设备

摘要

明提供一种等离子体加工设备，其包括反应腔室、激励射频电源、直流电源，上电极以及与上电极彼此相对地设置在反应腔室内的晶片支撑装置，该上电极与激励射频电源连接以在反应腔室内产生等离子体。所述晶片支撑装置包括承载晶片的托盘以及卡盘，在所述托盘内设有托盘电极，所述托盘放置于所述卡盘上且二者之间电绝缘，且所述托盘和所述卡盘均与等离子体电绝缘，所述托盘电极与所述直流电源的正极输出端或负极输出端电连接，所述卡盘内设有卡盘电极，所述卡盘电极接地，以使所述托盘和所述卡盘之间以及所述托盘和所述晶片之间均存在电压差。本发明提供的等离子体加工设备不仅容易操作、可靠性高，而且具有结构简单、成本低、不易损坏等优点。

主权项

一种等离子体加工设备，包括反应腔室、激励射频电源、直流电源，上电极以及与所述上电极彼此相对地设置在反应腔室内的晶片支撑装置，所述上电极与所述激励射频电源连接以在所述反应腔室内产生等离子体，所述晶片支撑装置包括承载晶片的托盘以及卡盘，在所述托盘内设有托盘电极，其特征在于：所述托盘放置于所述卡盘上且二者之间电绝缘，且所述托盘和所述卡盘均与等离子体电绝缘，所述托盘电极与所述直流电源的正极输出端或负极输出端电连接，所述卡盘内设有卡盘电极，所述卡盘电极接地，以使所述托盘和所述卡盘之间以及所述托盘和所述晶片之间均存在电压差，从而将托盘固定于卡盘的上表面。