发明名称 | 生成RC提取的修改布局的方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种生成RC提取的修改布局的方法。一种方法包括:根据第一类型宽度变化确定原始布局的第i组布局图案的第一组宽度偏移值。原始布局具有与N个掩模相对应的N组布局图案,第i组布局图案具有与N个掩模中的第i个掩模相对应的第i个掩模分配。顺序指数i为1至N的整数,N为大于1的整数。根据第二类型宽度变化确定原始布局的第i组布局图案的第二组宽度偏移值。基于第i组布局图案的第一组和第二组宽度偏移值生成修改布局。 | ||
申请公布号 | CN105320798A | 申请公布日期 | 2016.02.10 |
申请号 | CN201410800387.9 | 申请日期 | 2014.12.19 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 何嘉銘;苏哿颖;李宪信 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;李伟 |
主权项 | 一种基于原始布局生成修改布局的方法,所述方法包括:根据第一类型宽度变化确定第i组布局图案的第一组宽度偏移值,所述原始布局具有与N个掩模相对应的N组布局图案,所述第i组布局图案具有与所述N个掩模中的第i个掩模相对应的第i个掩模分配,顺序指数i为1至N的整数,N为大于1的整数;根据第二类型宽度变化确定所述原始布局的所述第i组布局图案的第二组宽度偏移值;以及基于所述第i组布局图案的所述第一组宽度偏移值和所述第二组宽度偏移值生成所述修改布局,所述第i个掩模的顺序指数i对应于制造工艺期间应用的所述第i个掩模的顺序,其中,通过硬件处理器执行上述操作中的一个或多个。 | ||
地址 | 中国台湾新竹 |