发明名称 |
一种含有界面δ掺杂的异质结太阳电池 |
摘要 |
本发明公开了一种含有界面δ掺杂的异质结太阳电池,该太阳电池发射区采用n型GaInP,其厚度为40~100nm;窗口层采用n型的AlInP或AlGaInP,其厚度为10~50nm;并采用δ掺杂,掺杂面密度为10<sup>11</sup>~10<sup>13</sup>cm<sup>-2</sup>。δ掺杂是在太阳电池的AlInP或AlGaInP窗口层和GaInP发射区的界面附近对窗口层进行δ掺杂。本发明提供的含有界面δ掺杂的异质结太阳电池,在窗口层与发射区界面处对窗口层进行δ掺杂来增强载流子在太阳电池中的输运。 |
申请公布号 |
CN103594540B |
申请公布日期 |
2016.02.03 |
申请号 |
CN201310614565.4 |
申请日期 |
2013.11.28 |
申请人 |
上海空间电源研究所 |
发明人 |
张建琴;陆宏波;张玮;周大勇;李欣益;孙利杰;陈开建 |
分类号 |
H01L31/0735(2012.01)I;H01L31/0352(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0735(2012.01)I |
代理机构 |
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 |
代理人 |
张静洁;贾慧琴 |
主权项 |
一种含有界面δ掺杂的异质结太阳电池,其特征在于,该太阳电池的发射区采用n型GaInP,其厚度为40~100nm;窗口层采用n型的AlInP或AlGaInP,其厚度为10~50nm;并采用δ掺杂,掺杂面密度为10<sup>11</sup>~10<sup>13</sup>cm<sup>‑2</sup>,所述的δ掺杂是在太阳电池的AlInP或AlGaInP窗口层和GaInP发射区的界面附近对窗口层进行δ掺杂。 |
地址 |
200245 上海市闵行区东川路2965号 |