用于形成阻隔层的方法

摘要

用于形成密封阻隔层的方法包括从喷溅靶喷溅薄膜，其中所述喷溅靶包含喷溅材料，例如低Tg玻璃、低Tg玻璃的前体或者铜或锡的氧化物。在喷溅过程中，将阻隔层中形成的缺陷限制在窄范围内并且喷溅材料维持在小于200℃的温度。

主权项

一种形成密封阻隔层的方法，其包括：在喷溅室内提供基材和喷溅靶，所述喷溅靶包含形成在导热背板上的喷溅材料，所述喷溅材料包括低Tg玻璃、低Tg玻璃的前体或者铜或锡的氧化物；将所述喷溅材料维持在小于200℃；以及用能源喷溅所述喷溅材料，以在所述基材的表面上形成包含所述喷溅材料的阻隔层；在喷溅过程中，将所述阻隔层内的缺陷尺寸分布和缺陷密度分布维持在小于临界自密闭阈值，以通过所述阻隔层内的所述喷溅材料的摩尔体积膨胀实现空隙空间密闭。