发明名称 光伏电池以及半导体元件的制作方法
摘要 本发明提供一种光伏电池以及半导体元件的制作方法,该光伏电池的制作方法包括:提供一半导体基板,该半导体基板具有一第一表面与一第二表面,该第二表面相对于该第一表面;在该半导体基板中形成一邻近该第一表面的第一掺杂区;进行一纳米压印工艺与一蚀刻工艺以于该半导体基板中形成一沟槽,该沟槽自该第一表面延伸入该半导体基板中;于该半导体基板中形成一位于该沟槽中的第二掺杂区,该第二掺杂区的掺杂浓度大于该第一掺杂区的掺杂浓度;以及以一导电材料填满该沟槽。本发明可高效率且符合成本效益地量产光伏电池。
申请公布号 CN102315316B 申请公布日期 2016.02.03
申请号 CN201110022187.1 申请日期 2011.01.18
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 涂志强;陈俊郎
分类号 H01L31/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人 张浴月;刘文意
主权项 一种光伏电池的制作方法,包括:提供一半导体基板,该半导体基板具有一第一表面与一第二表面,该第二表面相对于该第一表面,其中使该第一表面形成一纹理结构,其包括定义出一接触区域的平坦部分;在该半导体基板中形成一邻近该第一表面的第一掺杂区;在该半导体基板的该第一表面上形成一遮蔽层;提供一模具,该模具具有一图案,该图案包括至少一凸起结构;将该模具的凸起结构对齐该接触区域,然后将该模具压入该遮蔽层中,以使该凸起结构插入并贯穿该遮蔽层;移除该模具,并留下一图案化遮蔽层,该图案化遮蔽层具有一暴露出部分该半导体基板的开口;以该图案化遮蔽层为罩幕,进行一蚀刻工艺,以蚀刻该图案化遮蔽层的该开口所暴露出的部分该半导体基板,从而于该半导体基板中形成一沟槽,该沟槽自该第一表面延伸入该半导体基板中;于该半导体基板中形成一位于该沟槽中的第二掺杂区,该第二掺杂区的掺杂浓度大于该第一掺杂区的掺杂浓度;以及以一导电材料填满该沟槽。
地址 中国台湾新竹市