溅镀用钛靶

摘要

溅镀用钛靶，其系高纯度钛靶，其特征在于：含有合计3~100质量ppm之选自Al、Si、S、Cl、Cr、Fe、Ni、As、Zr、Sn、Sb、B、La中之1种以上之元素作为添加成分，不计添加成分与气体成分，靶之纯度为99.99质量%以上。课题在于提供一种即便于高功率溅镀(高速溅镀)时亦不会产生龟裂或破裂，而可使溅镀特性稳定之高品质之溅镀用钛靶。

主权项

一种溅镀用钛靶，其系含有合计3~100质量ppm之选自Al、Si、S、Cl、Cr、Fe、Ni、As、Zr、Sn、Sb、B、La中之1种以上之元素作为添加成分之高纯度钛靶，其特征在于：该等元素中，Al：1ppm~100ppm、Si：0.2ppm~100ppm、Cl：0ppm(其中，不计不可避免之杂质)~100ppm、Cr：0.3ppm~100ppm、Fe：10ppm(其中，不含10ppm)~100ppm、Ni：0ppm(其中，不计不可避免之杂质)~100ppm、Sn：0.1ppm~100ppm，不计添加成分与气体成分，靶之纯度为99.99质量%以上，且靶之平均结晶粒径为30μm以下。