发明名称 具有温度补偿自保护硅基APD阵列器件的制作方法
摘要 本发明涉及一种具有温度补偿自保护硅基APD阵列器件的制造方法,其结构包括:雪崩光电二极管(APD)阵列、温敏二极管和淬灭电阻。所述雪崩光电二极管阵列由微元APD,淬灭电阻与微元APD串联形成单元,所有这些单元并联在一起形成线阵,线阵器件与温敏二极管表面贴装连接。这种结构的APD阵列具有温度补偿性好,均匀性高,响应速度快,低噪声等优点。
申请公布号 CN105280551A 申请公布日期 2016.01.27
申请号 CN201410301179.4 申请日期 2014.06.30
申请人 哈尔滨工大华生电子有限公司 发明人 不公告发明人
分类号 H01L21/77(2006.01)I 主分类号 H01L21/77(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 具有温度补偿自保护硅基APD阵列器件的制造方法,其特征在于,包括:提供一种硅片作为衬底片;在所述衬底片上制造出微元APD构成阵列;在APD阵列外围采用表面贴装技术SMD对APD阵列、温敏二极管和淬灭电阻进行电器连接。
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