发明名称 |
包含表面活性剂的化学机械抛光组合物 |
摘要 |
本发明涉及包含表面活性剂的化学机械抛光组合物,更具体地说,本发明提供一种抛光组合物,其包括热解法氧化铝,α-氧化铝,二氧化硅,非离子表面活性剂,金属螯合有机酸,及液体载体。本发明还提供一种化学机械抛光基板的方法,其包括将基板与抛光垫和化学机械抛光组合物接触,并磨掉至少部分基板以抛光该基板。 |
申请公布号 |
CN102337080B |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201110150388.X |
申请日期 |
2005.10.21 |
申请人 |
卡伯特微电子公司 |
发明人 |
孙韬;罗伯特·梅兹克 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
宋莉 |
主权项 |
非离子表面活性剂在抛光组合物中用于增强金属表面的移除速率的用途,所述抛光组合物包含:(a)0.2至1重量%的热解法氧化铝,(b)0.1至1重量%的α‑氧化铝,(c)0.1至4重量%的二氧化硅,其中所述二氧化硅为胶体二氧化硅,(d)10至1000ppm的非离子表面活性剂,其中该非离子表面活性剂选自包含硅氧烷单元、氧化乙烯单元和氧化丙烯单元的共聚物表面活性剂,(e)金属螯合有机酸,(f)氧化剂,其选自过氧化氢、脲过氧化氢、过硫酸、过氧乙酸、过硼酸、它们的盐、以及它们的组合,和(g)液体载体。 |
地址 |
美国伊利诺伊州 |