发明名称 基板处理装置
摘要 本发明提供了一种单张式基板处理装置,其在直接向基板表面供应处理液,对基板进行处理时,处理液或其蒸气不会向外部飞散,在外壳的顶面等不会附着处理液或蒸气。该基板处理装置具有:外壳1;保持基板3使其处理面3a面向外壳底部1b的保持装置4,所述基板3在该外壳1内对处理面的附着物进行除去处理;对于通过保持装置4保持的基板3的处理面3a供应处理液的供应装置;用于向上述外壳1内引入气体的引入口1a;以及由外壳排出从上述引入口1a引入的气体和外壳1内的处理液蒸气的排出口1c。
申请公布号 CN102934201B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201080056865.X 申请日期 2010.12.13
申请人 JET股份有限公司 发明人 舟桥伦正;乙训贤二;江户裕树;铃木秀明
分类号 H01L21/027(2006.01)I 主分类号 H01L21/027(2006.01)I
代理机构 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 代理人 刘云贵;雒纯丹
主权项 一种基板处理装置,具有:外壳;将基板保持在上述外壳内的保持装置;向上述基板的形成有抗蚀剂膜或氮化膜的处理面供应处理液的第一供应装置;向上述处理面供应洗净液的第二供应装置;用于向上述外壳内引入气体的引入口;以及,用于由外壳排出外壳内的处理液蒸气的排出口;上述保持装置将上述基板保持为其处理面面向上述外壳的底部,向上述处理面供给上述处理液以除去形成于上述处理面的抗蚀剂膜或氮化膜,形成从上述引入口通向上述排出口的气流,通过上述气流使得处理液的蒸汽从该外壳内排出。
地址 日本冈山