发明名称 配線形成方法
摘要 本発明に係る配線形成方法は、下層配線(2)上に形成された絶縁樹脂層(3)の上面のコンタクトホール形成箇所に、光吸収により導電性を発現するインク(6)を塗布する工程と、インク(6)に光照射し、該インク(6)を導体化させるとともに、該インク(6)の発熱により該インク(6)の塗布面の下の絶縁樹脂層(3)を除去することにより、コンタクトホール(5)を形成する工程と、を含む。コンタクトホール(5)において下層配線(2)と導通する上層配線(4)を絶縁樹脂層(3)の上面に形成する工程をさらに行ってもよい。
申请公布号 JP5846594(B1) 申请公布日期 2016.01.20
申请号 JP20150534878 申请日期 2015.03.05
申请人 国立大学法人山形大学 发明人 熊木 大介;時任 静士;小林 悠;乗田 翔平
分类号 H01L21/768;H01L21/28;H01L21/283;H01L21/3205;H01L23/532;H05K1/09;H05K3/10 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
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