用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法

摘要

本发明提出一种用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，包括以下步骤：1）在晶圆上进行硬掩膜的生长；2）在硬掩膜上涂覆光刻胶；3）利用光刻工艺，将用于定位光纤阵列的梯形槽的图形转移到光刻胶上；4）利用等离子刻蚀技术，将梯形槽的图形进一步转移到硬掩膜上；5）利用等离子刻蚀技术，在晶圆上刻蚀出梯形槽，该梯形槽的侧壁与晶圆上表面的交界处为光滑的弧形面；6）除去晶圆上残留的硬掩膜。本发明可以解决目前制作光纤阵列定位槽通用的湿法腐蚀、机械加工等方法带来的定位精度差、成本高以及成品率低等问题，并且可以有效提高光纤阵列的组装效率及可靠性。

主权项

一种用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，包括以下步骤：1）在晶圆上进行硬掩膜的生长；2）在硬掩膜上涂覆光刻胶；3）利用光刻工艺，将光刻版上用于定位光纤阵列的等腰梯形槽的图形转移到光刻胶上；等腰梯形槽位于晶圆的上表面处的最大槽宽小于光纤阵列中光纤的直径，等腰梯形槽的深度大于光纤位于等腰梯形槽内的圆弧段的高度，且小于晶圆的厚度；根据光纤的形状和组装要求，等腰梯形槽的侧壁与槽底面之间的夹角θ满足条件：90°<θ≤100°；4）利用等离子刻蚀技术，将等腰梯形槽的图形进一步转移到硬掩膜上；5）利用等离子刻蚀技术，在晶圆上刻蚀出等腰梯形槽，该等腰梯形槽的侧壁与晶圆的上表面的交界处为光滑的弧形面；6）除去晶圆上残留的硬掩膜。