| 发明名称 |
抗反射积层体及其制造方法 |
| 摘要 |
在氟化镁层上具有含氟矽化合物层之抗反射积层体的机械耐久性提升。抗反射积层体具备透明基材及配置于该透明基材上之积层部。积层部自透明基材侧起依序具有氟化镁层及含氟矽化合物层。又，积层部于积层方向之一部分具有第1中间层，该第1中间层之氧原子浓度RO[at%]与镁原子浓度RM[at%]之比值(RO/RM)大于0.2且在1.5以下。
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| 申请公布号 |
TW201601929 |
申请公布日期 |
2016.01.16 |
| 申请号 |
TW104111925 |
申请日期 |
2015.04.14 |
| 申请人 |
旭硝子股份有限公司 |
发明人 |
宫村贤郎;中村清久;森本保 |
| 分类号 |
B32B7/02(2006.01);B32B27/00(2006.01);B32B9/00(2006.01);G02B1/11(2015.01);G06F3/041(2006.01);G09F9/00(2006.01);B32B43/00(2006.01);H05H1/46(2006.01) |
主分类号 |
B32B7/02(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
| 主权项 |
一种抗反射积层体，具备：透明基材；及积层部，其自前述透明基材侧起依序具有氟化镁层及含氟矽化合物层；并且，前述积层部系于积层方向之一部分具有第1面，该第1面之氧原子浓度RO[at%]与镁原子浓度RM[at%]之比值(RO/RM)大于0.2且在1.5以下。
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| 地址 |
日本 |
