发明名称 一种基坑支护结构
摘要 本发明公开了一种基坑支护结构,包括:旋喷桩和内插于所述旋喷桩中的双排桩结构;其中,所述旋喷桩为形成在基坑周边土体上的高强水泥土桩体,多根所述旋喷桩相互搭接形成加固区;所述双排桩结构包括第一排灌注桩、第二排灌注桩和连接第一排灌注桩和第二排灌注桩顶部的连梁,均为钢筋混凝土结构。本发明提出的是解决富水软土复杂地质条件下和复杂障碍物穿越基坑上方情况下的一种深基坑围护方案;当有电缆等障碍物穿越基坑上方时,灌注桩之间可以灵活调整间距,避开障碍物;大直径高压旋喷桩相互搭接有效止水,且与双排灌注桩一起控制坑外土体的水平位移,同时,在大直径旋喷桩中施作灌注桩组成的支护结构,节约基坑外施工场地。
申请公布号 CN103806449B 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201410053900.2 申请日期 2014.02.17
申请人 中交公路规划设计院有限公司 发明人 黄俊;龚成林;刘洪洲;赵光;王善高;张忠宇;徐国平;刘明虎;刘昌鹏;肖军华;戴慧兰;杜岳;黄浩;虞辰杰
分类号 E02D17/04(2006.01)I 主分类号 E02D17/04(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 宋焰琴
主权项 一种基坑支护结构,其特征在于,包括:旋喷桩和内插于所述旋喷桩中的双排桩结构;其中,所述旋喷桩为形成在基坑周边土体上的高强水泥土桩体,多根所述旋喷桩相互搭接形成加固区;所述双排桩结构包括第一排灌注桩、第二排灌注桩和连接第一排灌注桩和第二排灌注桩顶部的连梁,均为钢筋混凝土结构;所述第一排灌注桩和第二排灌注桩径向分布在基坑周边,所述第一排灌注桩靠近基坑,所述第二排灌注桩远离基坑;所述双排桩结构中第一排灌注桩和第二排灌注桩的排距可调;所述第一排灌注桩和第二排灌注桩中灌注桩间的间距可调;所述基坑支护结构还包括基坑支撑,其支撑在基坑内部相对的第一排灌注桩之间,所述第一排灌注桩靠近基坑;所述基坑支护结构还包括围檁,其用于连接第一排灌注桩和所述基坑支撑;所述基坑支撑包括多层,其层数根据基坑深度而不同;所述基坑支护结构适于有障碍物穿越的范围内,所述双排桩位于障碍物之间;所述基坑支护结构位于其他类型的支护结构所断开的位置处;所述其它类型的支护结构包括地下连续墙。
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