用于等离子体腔室中的快速且可重复的等离子体点燃和调谐的方法

摘要

本公开的诸实施例包括用于使用经由匹配网络耦合至工艺腔室的RF电源在该工艺腔室中进行等离子体处理的方法与设备。在一些实施例中，该方法包括：当匹配网络处于保持模式时，由RF电源以第一频率将RF功率提供给工艺腔室；在第一时期期间，使用RF电源将第一频率调整为第二频率以点燃等离子体；在第二时期期间，使用RF电源将第二频率调整为已知的第三频率，同时维持等离子体；以及将匹配网络的操作模式改变为自动调谐模式以减小由RF电源提供的RF功率的反射功率。

主权项

一种用于在工艺腔室中进行等离子体处理的设备，所述设备包括：第一RF电源，所述第一RF电源具有频率调谐；第一匹配网络，所述第一匹配网络耦合至所述第一RF电源；以及控制器，所述控制器用于控制所述第一RF电源与所述第一匹配网络，其中，所述控制器经配置以：通过以下方式中的至少一种来发起等离子体转换：指示所述RF电源将RF功率提供给所述工艺腔室；指示所述RF电源改变传送至所述工艺腔室的RF功率的等级；或改变所述工艺腔室中的压力，其中，所述RF电源以第一频率操作，并且所述匹配网络处于保持模式；在第一时期期间，指示所述RF电源将所述第一频率调整为第二频率以点燃所述等离子体；在第二时期期间，指示所述RF电源将所述第二频率调整为已知的第三频率，同时维持所述等离子体；以及将所述匹配网络的操作模式改变为自动调谐模式以减小由所述RF电源提供的RF功率的反射功率。