发明名称 |
具有应力补偿效应垒层的LED外延结构 |
摘要 |
具有应力补偿效应垒层的LED外延结构,涉及发光二极管技术领域。本实用新型结构从下至上依次包括图形化衬底、AlN缓冲层、U型GaN层、N型GaN层、浅量子阱层、有源区、电子阻挡层和P型GaN层。其结构特点是,所述有源区与电子阻挡层之间设有应力补偿效应垒层。所述应力补偿效应垒层从下至上依次包括本征半导体层、N型半导体层和P型半导体层。同现有技术相比,本实用新型通过增加垒层,可以提高电子阻挡效益、增加电动注入、减少效率衰减从而提高辐射复合几率,以达到增强LED内量子效率的目的。 |
申请公布号 |
CN204966526U |
申请公布日期 |
2016.01.13 |
申请号 |
CN201520717475.2 |
申请日期 |
2015.09.17 |
申请人 |
南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司 |
发明人 |
田宇;郑建钦;吴真龙;曾颀尧;董发;李鹏飞 |
分类号 |
H01L33/12(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/12(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
具有应力补偿效应垒层的LED外延结构,它从下至上依次包括图形化衬底(1)、AlN缓冲层(2)、U型GaN层(3)、N型GaN层(4)、浅量子阱层(5)、有源区(6)、电子阻挡层(7)和P型GaN层(8),其特征在于:所述有源区(6)与电子阻挡层(7)之间设有应力补偿效应垒层(601),所述应力补偿效应垒层(601)从下至上依次包括本征半导体层(611)、N型半导体层(612)和P型半导体层(613);所述本征半导体层(611)从下至上依次包括U‑GaN层(10)、U‑AlGaN层(11)和U‑InGaN层(12),或者从下至上依次包括U‑AlGaN层(11)、U‑InGaN层(12)和U‑GaN层(10);所述N型半导体层(612)从下至上依次包括N‑AlGaN层(13)和N‑InGaN层(14),或者从下至上依次包括N‑InGaN层(14)和N‑AlGaN层(13);所述P型半导体层(613)从下至上依次包括P‑AlGaN层(15)和P‑InGaN层(16),或者从下至上依次包括P‑InGaN层(16)和P‑AlGaN层(15)。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华同方科技广场A座29层 |