ＥＵＶリソグラフィー用反射性光学素子及びその製造方法

摘要

本発明は、ＥＵＶリソグラフィー用光学システムの反射性光学素子の製造方法に関するものであり、反射性光学素子（２０）は、ＥＵＶ波長域の動作波長である入射電磁波を反射し位相φの反射波を得る多層系（２３、８３）と、キャッピング層材料からなるキャッピング層（２５、８５）とを備え、かかる製造方法は、キャッピング層材料について、キャッピング層の厚さに対する、反射波の位相の依存曲線を決定するステップと、依存曲線における直線領域であり、キャッピング層（２５、８５）の厚さに伴って、反射波の位相が実質的に直線的に変化する領域を決定するステップと、キャッピング層（２５、８５）に厚さプロファイルを生成して、該厚さプロファイルにおける最大層厚及び最小層厚の両方が直線領域内となるようにするステップとを含む。【選択図】図４ａ