发明名称 CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
摘要 본 발명은, 진공 밸브와 같은 차폐 부재의 개방 상태에 있어서도, 외부의 전자파 영향을 억제하는 하전 입자선 장치의 제공을 목적으로 한다. 상기 목적을 달성하기 위해, 진공 챔버(111)를 구비한 하전 입자선 장치에 있어서, 상기 진공 챔버는 시료 반송 경로를 포위하는 개구부(104)를 갖고, 상기 진공 챔버(111)와, 대기측에 배치된 도전 부재(106) 사이를 도통함과 함께, 상기 개구부(104)를 포위하는 도전재(118)를 구비한 하전 입자선 장치를 제안한다. 본 발명에 따르면 반송 경로를 경유한 시료실에의 전자파(117)의 도달을 억제하는 것이 가능하게 된다.
申请公布号 KR20160003079(A) 申请公布日期 2016.01.08
申请号 KR20157033515 申请日期 2014.03.19
申请人 HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 发明人 FUJITA MASASHI;TSUNODA MASAHIRO;ONUKI KATSUNORI;AIBARA KATSUYA;SHINDO SEIICHI;NISHIMORI TAKAAKI
分类号 H01J37/09;H01J37/18;H01L21/67 主分类号 H01J37/09
代理机构 代理人
主权项
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