发明名称 一种硅片喷砂装置
摘要 本发明涉及一种硅片喷砂装置,解决了现有技术中硅片喷砂处理过程中砂料回收率低、喷砂过程对环境污染严重的不足。本发明提供的一种硅片喷砂装置,在箱体内设置隔板,隔板将箱体分为上腔和下腔,喷枪、控制开关、照明灯均位于上腔内,下腔内固定有喷砂器,隔板上开设有排砂口,在下腔内设置有喷砂器,排砂口通过排砂管与喷砂器连接,喷砂器通过喷砂管与喷枪连接,喷砂器对砂料进行处理后经喷砂管送至喷枪,操作人员通过取放窗口将产品置于上腔内,然后利用喷枪对产品进行喷砂处理,喷砂过程中密封板将取放窗口密封,操作人员通过手持窗口将手伸入手套内对位于上腔内的产品进行相关操作。
申请公布号 CN105215859A 申请公布日期 2016.01.06
申请号 CN201510725915.3 申请日期 2015.10.30
申请人 浙江辉弘光电能源有限公司 发明人 陈小力;张家伟
分类号 B24C3/04(2006.01)I;B24C9/00(2006.01)I 主分类号 B24C3/04(2006.01)I
代理机构 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 代理人 胡根良
主权项 一种硅片喷砂装置,其特征在于:包括箱体(1),所述箱体(1)内设有将箱体(1)分为上腔(3)和下腔(4)的隔板(2),所述隔板(2)上开设有排砂口(5),所述箱体(1)上开设有取放窗口(6),所述箱体(1)上还开设有观察窗口(7),所述取放窗口(6)和观察窗口(7)均与上腔(3)相通,所述箱体(1)上还固定有封闭观察窗口(7)的亚克力板(8),所述箱体(1)上设有封闭取放窗口(6)的密封板(9),所述箱体(1)上焊接有两根对密封板(9)进行定位的立柱(10),所述立柱(10)分别位于取放窗口(6)的两侧,所述立柱(10)上开设有供密封板(9)上、下滑动的滑槽(11),所述取放窗口(6)的下端固定有对密封板(9)进行限位的限位台(12),所述限位台(12)上开设有容纳密封板(9)的容纳槽,所述上腔(3)的顶壁上还固定有照明灯(13),所箱体(1)上还固定有控制照明灯(13)的照明开关(14),该硅片喷砂装置还包括喷枪(15),所述喷枪(15)位于上腔(3)内,所述下腔(4)内固定有喷砂器(16),所述排砂口(5)与喷砂器(16)之间通过排砂管(17)连接,所述喷砂器(16)通过喷砂管(18)与喷枪(15)连接,所述隔板(2)上开设有穿设喷砂管(18)的通孔,所述喷砂器(16)包括控制开关(19),所述控制开关(19)位于上腔(3)内,所述控制开关(19)固定在隔板(2)上,所述箱体(1)上还开设有两个便于操作人员手持产品的手持窗口(20),所述手持窗口(20)上固定有封闭手持窗口(20)的手套(21),所述手套(21)位于上腔(3)内。
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