发明名称 |
一种提高低气压等离子体喷涂沉积率的方法 |
摘要 |
一种提高低气压等离子体喷涂沉积率的方法,是涉及低气压等离子喷涂的改进。本发明以层流等离子体作为喷涂热源,以电场作为辅助来提高等离子喷涂的沉积率。层流等离子体射流稳定且有效高温区长,能够增加粉体颗粒的熔化时间;层流等离子体束对电场有约束作用,使得层流等离子体束区域的电场强度增加,其中的熔滴颗粒更加容易荷电,并且约束熔滴颗粒的飞行状态,使熔滴颗粒在到达基底时获得优化的速度与角度,同时在库仑力作用下减少熔滴颗粒与基底碰撞时的飞溅损失,进而提高喷涂沉积率。 |
申请公布号 |
CN105220104A |
申请公布日期 |
2016.01.06 |
申请号 |
CN201410275216.9 |
申请日期 |
2014.06.19 |
申请人 |
成都真火科技有限公司 |
发明人 |
朱华;李向阳;王鹏飞;黄佳华 |
分类号 |
C23C4/134(2016.01)I |
主分类号 |
C23C4/134(2016.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种提高低气压下等离子体喷涂沉积率的方法,其特征在于所使用的热源为层流等离子体,电场作为辅助。 |
地址 |
610000 四川省成都市高新区天府大道北段28号茂业中心B塔2802 |