发明名称 元件用Ge基板之洗净方法,洗净水供给装置及洗净装置
摘要 一种可在Ge基板的洗净工程或清洗工程中,一边抑制Ge氧化、溶解及因溶解而起的表面粗糙,一边进行有效的洗净或清洗洗净的方法及装置。使用将DO及过氧化氢去除后的水来将Ge基板进行洗净,藉此抑制洗净时的Ge的氧化、溶解。洗净水可为使氢气、氮气等非氧化性气体溶解的气体溶解水,亦可添加有药品。洗净亦可藉由超音波洗净、高压喷射洗净或二流体洗净进行。
申请公布号 TW201600183 申请公布日期 2016.01.01
申请号 TW103120711 申请日期 2014.06.16
申请人 栗田工业股份有限公司 发明人 床嶋裕人;正冈融
分类号 B08B3/14(2006.01);C02F1/58(2006.01) 主分类号 B08B3/14(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种元件用Ge基板之洗净方法,其系具有:以将溶解氧去除后的水来洗净元件用Ge基板的工程。
地址 日本