发明名称 |
元件用Ge基板之洗净方法,洗净水供给装置及洗净装置 |
摘要 |
一种可在Ge基板的洗净工程或清洗工程中,一边抑制Ge氧化、溶解及因溶解而起的表面粗糙,一边进行有效的洗净或清洗洗净的方法及装置。使用将DO及过氧化氢去除后的水来将Ge基板进行洗净,藉此抑制洗净时的Ge的氧化、溶解。洗净水可为使氢气、氮气等非氧化性气体溶解的气体溶解水,亦可添加有药品。洗净亦可藉由超音波洗净、高压喷射洗净或二流体洗净进行。
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申请公布号 |
TW201600183 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
申请号 |
TW103120711 |
申请日期 |
2014.06.16 |
申请人 |
栗田工业股份有限公司 |
发明人 |
床嶋裕人;正冈融 |
分类号 |
B08B3/14(2006.01);C02F1/58(2006.01) |
主分类号 |
B08B3/14(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种元件用Ge基板之洗净方法,其系具有:以将溶解氧去除后的水来洗净元件用Ge基板的工程。
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地址 |
日本 |