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发明名称
图案形成方法
摘要
图案形成方法,包括下列步骤。提供晶圆,晶圆包括多个晶圆内部晶粒与多个晶圆边缘晶粒。在各晶圆内部晶粒上形成第一图案,且在各晶圆边缘晶粒上形成第二图案,其中第一图案的形成方法包括进行至少两次曝光制程,第二图案的形成方法包括进行上述至少两次曝光制程中的至少一次,且形成第二图案所进行的曝光制程次数少于形成第一图案所进行的曝光制程次数。
申请公布号
TW201601195
申请公布日期
2016.01.01
申请号
TW103121398
申请日期
2014.06.20
申请人
力晶科技股份有限公司
发明人
翁文毅;翁子文
分类号
H01L21/027(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
叶璟宗;詹东颖;刘亚君
主权项
一种图案形成方法,包括:提供一晶圆,该晶圆包括多个晶圆内部晶粒与多个晶圆边缘晶粒;以及在各该晶圆内部晶粒上形成一第一图案,且在各该晶圆边缘晶粒上形成一第二图案,其中该些第一图案的形成方法包括进行至少两次曝光制程,该些第二图案的形成方法包括进行该至少两次曝光制程中的至少一次,且形成该些第二图案所进行的曝光制程次数少于形成该些第一图案所进行的曝光制程次数。
地址
新竹市新竹科学工业园区力行一路12号
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